PLASMA等离子清洗机VP-R3对标国际一线厂家,打破国内技术空白(低温真空石英腔体等离子清洗装置),真空腔体石英玻璃材质,两路进气通道,进气量可调,流量实时监测,数显真空检测,PLASMA等离子处理结束,自动泄压并实时观察自动泄压动态,中英文操作系统,触摸屏自动控制,功率160W,频率13.56MHz,能对材料起到清洁、刻蚀、活化、改性的作用,满功率运行30分钟,腔体温度不高于32℃,不损伤样品,适用于微流控芯片PDMS键合、ITO导电玻璃、石墨烯、纤维、单晶硅片、PET、二氧化硅等几乎所有材料的PLASMA处理。
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