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PECVD化学气相沉积设备
2023-09-11 11:41  浏览:6
 PECVD化学气相沉积设备质量流量控制系统一款多路质量流量计控制系统,其质量流量计和不锈钢混气罐都安装在一个移动柜里,移动柜Z大可以承重1000Lbs,所以在与本公司大多数管式炉配套使用时,可将设备置于移动柜上以节约空间。
  工作温度:5~45?C
  zui大压力:3x106 Pa
  精度:±1.5%FS
  线性:±(0.5-1.5)%F.S
  重复精度:±0.2%F.S.
  流量范围:
  一路:1~199 SCCM
  二路:1~499 SCCM
  PECVD注意:其他流量范围的可定制,需额外费用
  化学气相沉积设备CVD1200C-II-SL200D50-5Z双温区滑轨式CVD系统由双温区滑轨炉、质子流量控制系统、真空系统三部分组成。双温区滑轨炉可移动并可实现快速升降温;PLC控制5路质子流量器,能够精确控制系统的供气;真空泵可实现对管式炉快速抽真空。CVD(化学气象沉积系统)常用于表面材料生长、沉积,是一款实验室常用设备技术参数
  产品来源:http://www.hfkpy.com/Products-31807676.html
  商铺地址:https://www.chem17.com/st375393/product_31807676.html
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